真空度對真空電鍍有什么影響？

為了將蒸發膜的物質轉化為氣體，各種涂層技術都需要一個蒸發源或目標。隨著原材料和靶材的不斷改進，金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物都可以蒸發各種金屬膜和介質膜，在不同材料的蒸發中獲得多層膜。

本發明以真空技術為基礎，采用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射擊和磁控制等一系列新技術，為科學研究和生產提供新的薄膜制備技術。

簡而言之，金屬、合金或化合物在被涂物體(稱為基材、基材或基材)上凝固并沉積在真空中，即真空涂層。

真空電鍍時，真空度一般為10負3次左右。真空度是真空電鍍必須嚴格要求的指標之一。它直接關系到電鍍產品的顏色、耐磨性和牢固性。通常在電鍍過程中加入少量氣體，通過控制電弧電源增加真空室母材的離化率，通過磁場控制電弧改變產品的外觀和內在品質。

這主要是對電鍍工藝的影響。無論什么樣的電鍍方法，真空度越高，爐內雜氣原子越少，電鍍成分越接近你想要的比例。簡單來說，純度和結晶狀態更可控。

同時，對于涂層來說，加熱是基本的必要條件，較高的真空可以防止基體表面的氧化和氮化，對涂層的結合力有很大的幫助。

如果真空度太低，鍍出的產品會變黑，一段時間后會變黃。一般可以抽到5.0-2。如果產品要求很高，需要抽到2.0-2。當然產品要求不高，抽到-2也可以蒸發！

真空度取決于你的產品是否合格。如果是裝飾膜，真空度的差異直接導致顏色的不同。

如果是功能膜，則是產品粘結強度、光學性能等指標的偏差。